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      立式/臥式水熱處理裝置

      BASR系列立式/臥式水熱處理裝置采用PLC控制系統,進行催化劑的水熱老化處理,以實現對催化劑酸性、孔結構等微觀調控的目的。該裝置具有程控升溫等功能,系統操作穩定,并具有雙層壓力保護控制,以保證裝置的安全運行。
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      BASR
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        BASR系列立式/臥式水熱處理裝置采用PLC控制系統,進行催化劑的水熱老化處理,以實現對催化劑酸性、孔結構等微觀調控的目的。該裝置具有程控升溫等功能,系統操作穩定,并具有雙層壓力保護控制,以保證裝置的安全運行。
       
      技術指標:
      反應器容積:1.5-24 L
      控制溫度:室溫-800 ℃
      水流量:10-1000mL/hr.
      系統工作壓力:常壓-0.6MPa  
      反應器恒溫區控溫精度:±2 ℃
      流量控制精度:± 1.5%
      壓力控制精度:± 3%
       
      裝置特點:
      對預熱器溫度、反應器溫度、系統工作壓力、水流量等參數進行全過程實時檢測和控制。
      可獲取與儲存實時數據,歷史數據保留時間大于30天。
      具有超溫、超壓自動報警功能。所有監測點均可實現上下限報警,并在界面流程圖上或顯示框上顯示報警參數,歷史實時報警能夠自動存儲。
       
       
      未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

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